硅片除气装置厂家来电洽谈「科创真空」

真空除气储存柜主要参数

1、炉型结构：卧式与立式，单室与双室或多室，炉体炉门采用双层水冷，前开门结构。由炉体、加热系统、真空系统、充气系统、水冷系统、电控系统组成。

2、极限温度：1500℃

3、工作区尺寸：按照用户需求定制

4、设备总功率：20-100 KW（含加热系统、真空机组、制冷机）

5、电源频率：50Hz

6、电源电压：三相380 V（±10V）

高真空除气炉的特点

科创鼎新公司生产的高真空除气炉，真空度可高达10-7Pa，可用于半导体硅片的除气以及红外芯片、气密性封装、航空航天芯片等其他电子产品的封装。

高真空除气炉特点：　

①　极限真空度高；

②　控温精度高；

③　更高的升温速率；

④　更加智能化；

⑤　可真空去除产品空洞与气泡；

⑥　降低产品的氧化性；

⑦　提高工艺室的洁净度。

真空除气炉、真空存储柜的使用环境

使用环境

①　设备占地面积约：长2米，宽1.6米（约3.2平米）高1.95米；

②　电源：380 V±38 V，50 Hz±0.5 Hz，约15KW（外部电源用户自备）；

③　工件要求：无油污，无腐蚀性物质；

④　环境温度：   5 ℃ ～ 35 ℃；

⑤　相对湿度：  20%-85%；

⑥　设备应安装在通风良好的厂房内。

真空除气炉、真空存储柜的***维护

保修期满后，供方将以优惠价格向用户提供备品备件，并对设备提供终身有偿技术和维修服务；

设备安装调试时，对用户进行技术培训，培训内容包括设备的工作原理、操作、安全、维修、质控等。

设备日常维护包括真空泵的油位检查、电机有无异响、电压电流是否正常、水冷机制冷与流量是否存在异常。真空室内保持清洁，不得有灰尘、***或者溅入液体以及腐蚀性物质。应当定期对箱室清洁，可以进行酒精擦拭、氮气吹扫等。